स्वास्थ्य देखभाल डिब्बों और वातावरण की सफाई, कीटाणुशोधन और नसबंदी
सफाई, कीटाणुशोधन और नसबंदी स्वास्थ्य देखभाल परिसर और वातावरण में संक्रमण की रोकथाम और नियंत्रण की आधारशिला हैं
इस सबूत के बावजूद, ऐसी कई स्थितियां हैं जिनमें इन प्रक्रियाओं की कमी है या अनुपस्थित भी हैं, और जिनमें कर्मचारी खराब या अपर्याप्त रूप से प्रशिक्षित हैं।
सफाई, कीटाणुशोधन और नसबंदी, कुछ बुनियादी अवधारणाएँ:
सफाई और पूर्व सफाई
जबकि 'सफाई' का अर्थ है दृश्यमान गंदगी को हटाना, 'पूर्व-सफाई' शब्द का अर्थ कीटाणुशोधन या नसबंदी से पहले शरीर के तरल पदार्थ और अन्य दूषित पदार्थों को हटाने से है।
पर्याप्त पूर्व-सफाई रोगजनकों के माइक्रोबियल भार को काफी हद तक कम कर सकती है जबकि कार्बनिक और अकार्बनिक अवशेषों को हटाने से पुन: कंडीशनिंग प्रक्रिया को सुविधाजनक बनाया जा सकता है।
प्रभावी कीटाणुशोधन या नसबंदी के लिए सावधानीपूर्वक सफाई आवश्यक है
उपकरणों की प्रभावी सफाई और पूर्व-सफाई में अक्सर यांत्रिक क्रिया और गर्मी के साथ संयुक्त रसायनों की आवश्यकता होती है।
यह मैन्युअल रूप से और/या स्वचालित मशीनों के साथ किया जा सकता है।
मैनुअल प्री-क्लीनिंग में पुन: संसाधित किए जा रहे उपकरणों के बाहर और अंदर से गंदगी को हटाने के लिए ऑपरेटर (रगड़, ब्रश करना, फ्लशिंग) द्वारा की गई यांत्रिक गतिविधि के साथ संयुक्त डिटर्जेंट या एंजाइम के उपयोग की आवश्यकता होती है।
सफाई या कीटाणुशोधन के बाद, किसी भी रासायनिक अवशेष को हटाने के लिए उपकरणों को अच्छी तरह से धोया जाना चाहिए और फिर निर्माता द्वारा अनुशंसित के अनुसार सुखाया जाना चाहिए।
क्षति या पुनर्संदूषण से बचने के लिए सभी पुनर्संसाधित उपकरणों को ठीक से संग्रहित किया जाना चाहिए।
सफाई, कीटाणुशोधन और बंध्याकरण: स्पॉल्डिंग वर्गीकरण
1968 में, Spaulding ने चिकित्सा/सर्जिकल उपकरणों को संक्रमण फैलाने की उनकी क्षमता के आधार पर महत्वपूर्ण, अर्ध-महत्वपूर्ण और गैर-महत्वपूर्ण के रूप में वर्गीकृत किया।
महत्वपूर्ण उपकरण आमतौर पर बाँझ ऊतक, संवहनी प्रणाली या सिस्टम में प्रवेश करते हैं जिसके माध्यम से रक्त बहता है; उदाहरण सर्जिकल उपकरण और संवहनी कैथेटर हैं।
इन उपकरणों को उपयोग करने से पहले ठीक से और सुरक्षित रूप से पूर्व-साफ और निष्फल होना चाहिए।
अर्ध-महत्वपूर्ण उपकरण बरकरार श्लेष्मा झिल्ली या गैर-बरकरार त्वचा के संपर्क में आते हैं; उदाहरण फाइबर-ऑप्टिक एंडोस्कोप, योनि जांच और सहायक श्वास हैं उपकरण.
इन वस्तुओं को उपयोग करने से पहले उचित पूर्व-सफाई और, कम से कम, उच्च-स्तरीय कीटाणुशोधन की आवश्यकता होती है।
गैर-महत्वपूर्ण उपकरण (जैसे ब्लड प्रेशर कफ, स्टेथोस्कोप) जो बरकरार त्वचा के संपर्क में आते हैं, उनमें स्वास्थ्य कर्मियों के हाथों में रोगजनकों के हस्तांतरण को छोड़कर, संक्रमण फैलने का कम जोखिम होता है।
तटस्थ डिटर्जेंट या पानी और इथेनॉल के 70% समाधान के साथ इन उपकरणों की आवधिक सफाई और पोंछना आमतौर पर पर्याप्त होता है (पुन: प्रयोज्य बेडपैन, हालांकि गैर-महत्वपूर्ण उपकरणों के रूप में माना जाता है, अधिक कठोर सफाई, धुलाई और कीटाणुशोधन की आवश्यकता होती है, खासकर जब संदूषण के साथ, उदाहरण के लिए, वैनकोमाइसिन-प्रतिरोधी एंटरोकॉसी या क्लोस्ट्रीडियम डिफिसाइल संदिग्ध है)।
रोगी कक्ष और प्रतीक्षालय में अधिकांश पर्यावरणीय सतहों को गैर-महत्वपूर्ण माना जाता है और उन्हें नियमित कीटाणुशोधन की आवश्यकता नहीं होती है।
हालांकि, संपर्क की उच्च आवृत्ति वाली सतहों, विशेष रूप से रोगी के तत्काल आसपास के क्षेत्रों में, देखभाल कर्मचारियों के हाथों में रोगजनकों के हस्तांतरण से बचने के लिए नियमित परिशोधन की आवश्यकता होती है।
हाल के दिशानिर्देशों में कोई विशेष संकेत नहीं है कि ऐसी सतहों को कब, कैसे और कितनी बार परिशोधित किया जाना चाहिए। 9,10.
हालांकि स्पाउल्डिंग 7 की वर्गीकरण प्रणाली वैध बनी हुई है, इसे वर्तमान जरूरतों के अनुकूल बनाने की जरूरत है।
भौतिक और रासायनिक एजेंटों 11 के लिए उनके असामान्य प्रतिरोध और क्लोस्ट्रीडियम डिफिसाइल बीजाणु 10 या कार्बापेनेमिक्स-प्रतिरोधी एंटरोबैक्टीरिया 12 के कारण देखभाल से संबंधित संक्रमणों के उद्भव के साथ, चिकित्सा उपकरणों के पुन: प्रसंस्करण की पुन: परीक्षा चला रहे हैं।
प्रियन से दूषित उपकरणों को सामान्य रूप से उपयोग किए जाने वाले 11 से कहीं अधिक नसबंदी प्रोटोकॉल की आवश्यकता होती है।
कुछ कीटाणुनाशक (जैसे एल्डिहाइड) आमतौर पर गैस्ट्रोइंटेस्टाइनल एंडोस्कोप को पुन: संसाधित करने के लिए उपयोग किए जाते हैं, सी। डिफिसाइल बीजाणुओं को मारने के लिए लंबे समय तक संपर्क समय की आवश्यकता होती है।
लचीले फाइबर-ऑप्टिक एंडोस्कोप जैसे हीट-सेंसिटिव डिवाइस का उपयोग उन ऑपरेशनों के लिए तेजी से किया जाता है जिनमें श्लेष्म झिल्ली की अखंडता का जानबूझकर उल्लंघन किया जाता है, इस प्रकार 'क्रिटिकल' और 'सेमी-क्रिटिकल' उपकरणों के बीच की रेखा को पार किया जाता है।
चिकित्सा उपकरणों का पुन: प्रसंस्करण: कीटाणुशोधन
"कीटाणुशोधन" का अर्थ है गर्मी, रसायनों या दोनों का उपयोग करके एक निर्जीव सतह या वस्तु पर रोगजनकों की संख्या को कम करना।
अधिकांश कीटाणुशोधन प्रक्रियाओं में जीवाणु बीजाणुओं के खिलाफ बहुत कम गतिविधि होती है; बीजाणुओं की मात्रा में कोई कमी मुख्य रूप से यांत्रिक क्रिया और धुलाई द्वारा प्राप्त की जाती है।
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सफाई, कीटाणुशोधन और नसबंदी: पाश्चराइजेशन और उबालना
अर्ध-महत्वपूर्ण उपकरण, जैसे कि श्वसन चिकित्सा या संज्ञाहरण उपकरण के लिए उपयोग किए जाने वाले उपकरणों को पानी में गर्म करके पास्चुरीकृत किया जा सकता है।
उनके सभी हिस्से 30-65 डिग्री सेल्सियस पर कम से कम 77 मिनट के लिए पूरी तरह से डूबे रहने चाहिए।
अधिक ऊंचाई वाले स्थानों में, पानी के क्वथनांक तक पहुंचने के लिए अधिक समय की आवश्यकता होती है, क्योंकि समुद्र तल से दूर जाने पर यह बढ़ जाता है। 13
उबलते पानी में गर्मी प्रतिरोधी उपकरणों को लगभग 10 मिनट तक भिगोने से रोगजनकों के सूक्ष्मजीव भार को काफी हद तक कम किया जा सकता है, लेकिन इसे कभी भी 'नसबंदी' नहीं माना जाना चाहिए।
इसलिए पाश्चराइजेशन और उबालना कम तकनीक वाली, रासायनिक मुक्त विधियां हैं (जब तक पानी शुद्ध है); एक बार इलाज के बाद, वस्तुओं को सुरक्षित परिवहन और भंडारण के लिए देखभाल के साथ संभाला जाना चाहिए।
सफाई, कीटाणुशोधन और नसबंदी: रासायनिक कीटाणुशोधन
आम रासायनिक कीटाणुनाशकों में अल्कोहल, क्लोरीन और क्लोरीन यौगिक, ग्लूटाराल्डिहाइड, ऑर्थो-फथालडिहाइड, हाइड्रोजन पेरोक्साइड, पेरासिटिक एसिड, फिनोल और चतुर्धातुक अमोनियम यौगिक (CAQ) शामिल हैं।
इन रसायनों का उपयोग अकेले या संयोजन में किया जा सकता है।
उनका उपयोग उत्पाद लेबल पर निर्माता के निर्देशों के अनुसार किया जाना चाहिए, और केवल उन सतहों पर जिनके साथ वे संगत हैं।
आदर्श रूप से, वाणिज्यिक उत्पादों को स्वास्थ्य सुविधाओं में बेचे और उपयोग किए जाने से पहले लेबल पर बताई गई बातों का समर्थन करने के लिए मानक परीक्षण पास करना चाहिए।
हालांकि, उत्पादों को पंजीकृत करने की आवश्यकताएं और लेबल पर जो घोषित किया गया है, वह एक क्षेत्र से दूसरे क्षेत्र में व्यापक रूप से भिन्न है।
रासायनिक कीटाणुनाशक व्यापक रूप से मनुष्यों और पर्यावरण के लिए हानिकारक प्रभावों के संदर्भ में भिन्न होते हैं; उनका उपयोग सावधानी से किया जाना चाहिए और केवल तभी जब कोई व्यवहार्य विकल्प उपलब्ध न हो।
निस्संक्रामकों को उनकी सूक्ष्मजीवीनाशक गतिविधि के अनुसार तीन श्रेणियों में बांटा गया है: उच्च स्तरीय कीटाणुनाशक
उच्च स्तरीय कीटाणुनाशक (डीएएल) वानस्पतिक रूप में बैक्टीरिया, वायरस (गैर-गुप्त वायरस सहित), कवक और माइकोबैक्टीरिया के खिलाफ सक्रिय हैं। लंबे समय तक संपर्क समय के साथ, वे जीवाणु बीजाणुओं के खिलाफ भी गतिविधि कर सकते हैं।
DALs का उपयोग गर्मी के प्रति संवेदनशील उपकरणों और लचीले फाइबर-ऑप्टिक एंडोस्कोप जैसे अर्ध-महत्वपूर्ण उपकरणों को कीटाणुरहित करने के लिए किया जाता है।
एल्डिहाइड (ग्लूटाराल्डिहाइड और ऑर्थोफथाल्डिहाइड) और ऑक्सीडेंट (जैसे हाइड्रोजन पेरोक्साइड और पेरासिटिक एसिड) डीएएल हैं।
एल्डिहाइड गैर-संक्षारक होते हैं और अधिकांश उपकरणों पर उपयोग के लिए सुरक्षित होते हैं।
हालांकि, वे कार्बनिक पदार्थों के आसंजन को बढ़ावा दे सकते हैं; इसलिए, कीटाणुशोधन से पहले किसी भी संलग्न सूक्ष्मजीवों को हटाना विशेष रूप से महत्वपूर्ण है।
यदि ठीक से तैयार और उपयोग नहीं किया जाता है, तो ऑक्सीडाइज़र संक्षारक हो सकते हैं।
हालांकि, वे एल्डिहाइड की तुलना में पर्यावरण के लिए तेज-अभिनय, गैर-फिक्सेटिव और सुरक्षित हो सकते हैं।
तापमान के आधार पर, डीएएल को आमतौर पर 10 से 45 मिनट के संपर्क समय की आवश्यकता होती है।
कीटाणुशोधन के बाद, उपकरणों को किसी भी अवशिष्ट रसायनों को हटाने के लिए बाँझ या माइक्रोफ़िल्टर किए गए पानी से अच्छी तरह से धोने की आवश्यकता होती है; इसके बाद डिवाइस को अल्कोहल-आधारित समाधान पास करके या स्टोरेज से पहले डिवाइस चैनलों के माध्यम से साफ, फ़िल्टर की गई हवा को उड़ाकर सुखाया जाना चाहिए।
मध्यम स्तर के कीटाणुनाशक
एक कीटाणुनाशक (जैसे इथेनॉल) वानस्पतिक रूप में बैक्टीरिया, माइकोबैक्टीरिया, माइसेट्स और अधिकांश वायरस के खिलाफ सक्रिय है।
लंबे समय तक एक्सपोजर के बाद भी, यह बीजाणुओं को मारने में सक्षम नहीं हो सकता है।
निम्न स्तर के कीटाणुनाशक
निम्न स्तर के कीटाणुनाशक (जैसे चतुर्धातुक अमोनियम यौगिक) वानस्पतिक रूप में बैक्टीरिया के खिलाफ सक्रिय होते हैं (माइकोबैक्टीरिया को छोड़कर), कुछ माइसेट्स और केवल लेपित वायरस।
कई मामलों में, ऐसे कीटाणुनाशक के बजाय गैर-एंटीसेप्टिक साबुन और पानी से धोना पर्याप्त होगा।
बंध्याकरण
बंध्याकरण कोई भी प्रक्रिया है जो किसी वस्तु में या उस पर पाए जाने वाले सभी सूक्ष्म जीवों को निष्क्रिय कर सकती है; मानक नसबंदी प्रक्रियाओं के लिए प्रियन पर गतिविधि में बदलाव की आवश्यकता हो सकती है।11
गर्मी नसबंदी का सबसे विश्वसनीय साधन है; अधिकांश सर्जिकल उपकरण गर्मी प्रतिरोधी होते हैं।
आटोक्लेव में दबाव में भाप के रूप में उपयोग की जाने वाली नम गर्मी, सूक्ष्मजीवों को उनके प्रोटीन को विकृत करके मार देती है।
ओवन में उपयोग की जाने वाली सूखी गर्मी बहुत धीमी प्रक्रिया के माध्यम से ऑक्सीकरण से मर जाती है।
सूखी गर्मी का उपयोग नमी के प्रति संवेदनशील सामग्री (निर्जल पाउडर) या उन वस्तुओं को निष्फल करने के लिए किया जाता है जो भाप में प्रवेश नहीं कर सकती हैं (तेल और मोम)।
गर्मी के प्रति संवेदनशील उपकरणों को कम तापमान वाले नसबंदी की आवश्यकता होती है; इस उद्देश्य के लिए अक्सर एथिलीन ऑक्साइड (ईओ), हाइड्रोजन पेरोक्साइड गैस-प्लाज्मा, और फॉर्मलाडेहाइड भाप का उपयोग किया जाता है
निष्फल उपकरणों को एक साफ, धूल रहित और सूखी जगह पर संग्रहित किया जाना चाहिए और पैकेजिंग की अखंडता की गारंटी दी जानी चाहिए।
बाधा अखंडता और नमी की अनुपस्थिति के लिए उपयोग करने से पहले बाँझ आपूर्ति वाले पैकेजों की जांच की जानी चाहिए।
यदि पैकेजिंग से छेड़छाड़ की जाती है, तो उपकरणों का उपयोग नहीं किया जाना चाहिए, लेकिन साफ, पैक और फिर से निर्जलित किया जाना चाहिए।
भाप नसबंदी भाप नसबंदी का सबसे विश्वसनीय साधन है।
यह गैर-विषाक्त है (जब वाष्पशील रसायनों से मुक्त पानी से उत्पन्न होता है), इसमें व्यापक स्पेक्ट्रम माइक्रोबायसाइड गतिविधि और अच्छी मर्मज्ञ क्षमता होती है, और यह सस्ती और नियंत्रित करने में आसान होती है। 15,16
नसबंदी के लिए आवश्यक तापमान और एक निश्चित समय के लिए दबाव पर, निष्फल होने वाली वस्तु और भाप के बीच सीधे संपर्क की आवश्यकता होती है।
आटोक्लेव विशेष रूप से डिजाइन किए गए कक्ष होते हैं जहां दबाव में भाप उच्च तापमान उत्पन्न करती है।
वे प्रेशर कुकर के समान सिद्धांत पर आधारित हैं।
स्टीम स्टरलाइज़र के दो मुख्य प्रकार हैं:
- गुरुत्वाकर्षण (नीचे की ओर) हटाने वाले आटोक्लेव में, कक्ष के नीचे से ठंडे, सघन वायु-भाप मिश्रण को हटाने के लिए कक्ष के शीर्ष में भाप को पेश किया जाता है। निकास वाल्व बंद हो जाता है जब सभी हवा हटा दी जाती है, जिससे दबाव और तापमान बढ़ जाता है। इस तरह के आटोक्लेव का उपयोग तरल पदार्थ और वस्तुओं को बाड़ों में निष्फल करने के लिए किया जाता है जो भाप में घुसने में सक्षम होते हैं। नसबंदी चरण आमतौर पर लगभग 15 मिनट 121 डिग्री सेल्सियस पर 103.4 किलोपास्कल (15 एलबीएस/वर्ग इंच) पर रहता है।
- उच्च-वैक्यूम आटोक्लेव में, पहले नसबंदी कक्ष में एक वैक्यूम बनाया जाता है और फिर भाप को पेश किया जाता है, जिससे पूरे भार में तेजी से और अधिक कुशल भाप प्रवेश की अनुमति मिलती है। तेजी से बढ़ता दबाव और तापमान लगभग 134 किलोपास्कल (206.8 पाउंड/वर्ग इंच) पर 30 डिग्री सेल्सियस पर तीन मिनट के प्रक्रिया समय की अनुमति देता है।
ऑटोक्लेव किए जाने वाले उपकरणों को उन सामग्रियों में लपेटा जाना चाहिए जो भाप को घुसने की अनुमति देते हैं और उपचारित उपकरण को भंडारण के दौरान बाँझ रखते हैं।
पूरे भार में भाप तक मुफ्त पहुंच की अनुमति देने के लिए आटोक्लेव के ओवरलोडिंग से बचा जाना चाहिए।
पैकेजों को उनकी सामग्री और नसबंदी की तारीख के साथ-साथ ऑपरेटर के सीरियल नंबर और साइकिल नंबर की पहचान करने के लिए चिह्नित किया जाना चाहिए ताकि किसी भी याद को सुविधाजनक बनाया जा सके और आपूर्ति के रोटेशन को सुविधाजनक बनाया जा सके।
स्थापना के समय और उसके बाद नियमित रूप से सभी स्टीम स्टरलाइज़र का विश्लेषण किया जाना चाहिए; सभी संचालन और नियमित रखरखाव का रिकॉर्ड रखा जाना चाहिए। सभी कर्मियों को आटोक्लेव6 के सुरक्षित उपयोग में पूरी तरह से प्रशिक्षित किया जाना चाहिए।
सफाई, कीटाणुशोधन और नसबंदी प्रक्रियाओं में नियंत्रण
जैविक और रासायनिक संकेतक उपलब्ध हैं और इनका उपयोग आटोक्लेव की नियमित निगरानी के लिए किया जाना चाहिए।
जैविक संकेतक (आईबी) में जिओबैसिलस स्टीयरोथर्मोफिलस जीवाणु के बीजाणु होते हैं।
व्यावसायिक रूप से उपलब्ध बीजाणु या बीजाणु युक्त बोतलों को निष्फल होने के लिए रणनीतिक रूप से लोड में रखा जाता है।
एक चक्र के बाद, विकास के लिए आईबी सुसंस्कृत या मूल्यांकन किए जाते हैं और सफल नसबंदी का दावा करने के लिए कोई वृद्धि नहीं दिखानी चाहिए।
रासायनिक संकेतक (सीआई) का उपयोग यह आकलन करने के लिए किया जाता है कि क्या नसबंदी प्रक्रिया के दौरान आवश्यक समय और तापमान हासिल किया गया है।
CI का एक उदाहरण आटोक्लेव टेप है, जिसे पैकेज के बाहर चिपकाया जा सकता है; यदि पैकेज गर्मी के संपर्क में आ गया है तो टेप एक रंग परिवर्तन दिखाता है।
हालांकि आईसी यह इंगित करने के लिए उपयुक्त नहीं हैं कि किसी उत्पाद को निष्फल किया गया है या नहीं, वे उपकरण की खराबी का पता लगाने और प्रक्रियात्मक त्रुटियों की पहचान करने में मदद कर सकते हैं।
उच्च निर्वात प्रक्रिया के लिए, भार में भाप का प्रवेश पर्याप्त वायु निष्कासन पर निर्भर करता है।
इसे दो तरह से चेक किया जा सकता है:
1) 'रिसाव परीक्षण' के साथ: क्या वैक्यूम को बनाए रखा जा सकता है या हवा बच जाएगी? (अक्सर ढक्कन के आसपास)।
2) 'बॉवी डिक' परीक्षण में इस्तेमाल किए गए तौलिये के एक छोटे पैकेज में प्रवेश करने के लिए भाप की क्षमता के साथ।
यदि इन जाँचों के परिणाम संतोषजनक हैं, तो एक वैकल्पिक जाँच 'पैरामीट्रिक रिलीज़' है।
यह प्रणाली यह जांचने पर आधारित है कि नसबंदी चक्र आईबी के अलावा या इसके बजाय कैलिब्रेटेड उपकरणों का उपयोग करके तापमान, दबाव और समय के लिए सभी विनिर्देशों को पूरा करता है।
चूंकि यह दृष्टिकोण मापने योग्य डेटा और कैलिब्रेटेड उपकरणों पर आधारित है, इसलिए परिणाम आईबी के उपयोग की तुलना में अधिक विश्वसनीय और बहुत तेज होते हैं।
अन्य स्टरलाइज़र
भाप का उपयोग दो अन्य प्रकार के स्टरलाइज़र में भी किया जाता है।
कम तापमान वाली भाप-फॉर्मेल्डिहाइड प्रक्रिया में, गैसीय अवस्था में फॉर्मलाडेहाइड के साथ भाप (50-80 डिग्री सेल्सियस) का उपयोग गर्मी के प्रति संवेदनशील चिकित्सा उपकरणों (यहां तक कि प्रतिबंधित लुमेन वाले) को निष्फल करने के लिए किया जाता है।
हमेशा की तरह, उपकरणों को साफ किया जाता है और फिर संसाधित किया जाता है। सबसे पहले, एक वैक्यूम बनाया जाता है; भाप को क्रमिक जेट में पेश किया जाता है जिसके बाद फॉर्मलाडेहाइड का वाष्पीकरण होता है।
चक्र के अंत में, फॉर्मलाडेहाइड को हटा दिया जाता है और आटोक्लेव भाप और उच्च वैक्यूम के कई जेट के साथ पूरी तरह से खाली हो जाता है।
स्टरलाइज़र के प्रदर्शन की निगरानी के लिए रासायनिक और जैविक संकेतकों का उपयोग किया जाता है।
इस प्रणाली का उपयोग तरल पदार्थों के साथ नहीं किया जा सकता है और फॉर्मलाडेहाइड की संभावित विषाक्तता एक मुद्दा बनी हुई है।
तेजी से या तत्काल नसबंदी प्रक्रिया (फ्लैश नसबंदी) में, भाप का उपयोग महत्वपूर्ण उपकरणों के इलाज के लिए किया जाता है जैसे शल्य चिकित्सा उपकरण गलती से एक ऑपरेशन के दौरान दूषित हो जाते हैं या जब नसबंदी का कोई अन्य साधन उपलब्ध नहीं होता है।
इसका उपयोग कभी भी प्रत्यारोपण योग्य उपकरणों के लिए या आवश्यक उपकरणों की कमी की भरपाई के लिए नहीं किया जाना चाहिए।
झरझरा या गैर-छिद्रपूर्ण वस्तुओं के तेजी से नसबंदी में, गुरुत्वाकर्षण भाप हटाने या उच्च वैक्यूम के साथ एक आटोक्लेव का उपयोग करना संभव नहीं है, बिना लपेटे या एक ही लपेट का उपयोग करना।
जिस तेजी के साथ उपकरणों को पुन: संसाधित किया जाता है, उसके कारण उपयोग किए गए आईबी के पढ़ने की प्रतीक्षा करना संभव नहीं है।
जब तक उचित कंटेनरों का उपयोग नहीं किया जाता है, तब तक उपचारित वस्तुओं के पुन: संदूषण का एक उच्च जोखिम होता है और उपयोग के स्थान पर परिवहन के दौरान कर्मियों के जलने का भी खतरा होता है।
माइक्रोवेव
पानी युक्त वस्तुओं को माइक्रोवेव में उजागर करने से पानी के अणुओं के तेजी से घूमने से उत्पन्न घर्षण के कारण गर्मी पैदा होती है।
अब तक, इस प्रक्रिया का उपयोग केवल सॉफ्ट कॉन्टैक्ट लेंस कीटाणुरहित करने और मूत्र कैथेटर को दागने के लिए किया गया है।
हालांकि, कांच या प्लास्टिक के कंटेनर में माइक्रोवेव के संपर्क में आने से पानी की थोड़ी मात्रा को भोजन के लिए सुरक्षित बनाया जा सकता है।
इसी तरह, छोटे कांच या प्लास्टिक की वस्तुओं को पानी में डुबोया जा सकता है और माइक्रोवेव ओवन में 'कीटाणुरहित' किया जा सकता है।
सूखी गर्मी नसबंदी
गर्म हवा के ओवन का उपयोग शुष्क-गर्मी नसबंदी के लिए किया जाता है।
वे उच्च तापमान तक पहुंच सकते हैं और गर्मी वितरण के लिए एक पंखे से लैस होना चाहिए।
प्री-हीटिंग अनिवार्य रूप से नसबंदी चक्र शुरू करने से पहले है।
गर्म हवा के ओवन डिजाइन में सरल होते हैं और आटोक्लेव की तुलना में उपयोग में सुरक्षित होते हैं और कांच के बने पदार्थ, धातु की वस्तुओं, पाउडर और निर्जल सामग्री (तेल और ग्रीस) को स्टरलाइज़ करने के लिए उपयुक्त होते हैं।
नसबंदी में 160 डिग्री सेल्सियस पर दो घंटे लगते हैं, या 180 डिग्री सेल्सियस पर एक घंटे लगते हैं।
आग के जोखिम से बचने के लिए रबड़, कागज और कपड़े का उपचार नहीं करना चाहिए।
इथिलीन ऑक्साइड
एथिलीन ऑक्साइड (ईओ) का उपयोग उन वस्तुओं को निष्फल करने के लिए किया जाता है जो गर्मी, दबाव या नमी के प्रति संवेदनशील होती हैं।
ईओ एक रंगहीन, ज्वलनशील, विस्फोटक गैस है जो मनुष्यों के लिए जहरीली है।
OE हाइड्रोक्लोरोफ्लोरोकार्बन (IFCC) के साथ गैसीय मिश्रण के रूप में उपलब्ध है या इसमें 8.5% OE और 91.5% कार्बन डाइऑक्साइड का मिश्रण है; बाद वाला कम खर्चीला है।
नसबंदी सुनिश्चित करने के लिए प्रक्रिया के दौरान ईओ एकाग्रता, तापमान, सापेक्ष आर्द्रता और एक्सपोजर को सही स्तर पर रखा जाना चाहिए।
गैस की सघनता 450 और 1200 मिलीग्राम/लीटर के बीच होनी चाहिए, तापमान 37 डिग्री से 63 डिग्री सेल्सियस के बीच, सापेक्षिक आर्द्रता 40% से 80% के बीच, और एक्सपोजर 1 से 6 घंटे के बीच होना चाहिए।
पैरामीट्रिक मूल्यों की रिहाई संभव नहीं है क्योंकि गैस की सांद्रता और सापेक्ष आर्द्रता को आसानी से नहीं मापा जा सकता है; आईबी को हर लोड में शामिल किया जाना चाहिए।
अनुशंसित आईबी बैसिलस एट्रोफियस है; लोड को आईबी का इनक्यूबेशन पूरा होने तक क्वारंटाइन में रखा जाना चाहिए।
ओई के साथ नसबंदी के मुख्य नुकसान लंबे चक्र समय और उच्च लागत हैं।
रोगी की सुरक्षा के लिए सभी अवशिष्ट OE को हटाने की प्रक्रिया के बाद निष्फल वस्तुओं को अच्छी तरह हवादार होना चाहिए।
हाइड्रोजन पेरोक्साइड प्लाज्मा गैस
हाइड्रोजन पेरोक्साइड गैस अणुओं को उत्तेजित करने और आवेशित कणों का उत्पादन करने के लिए रेडियो-आवृत्तियों या माइक्रोवेव ऊर्जा का उपयोग करके उच्च वैक्यूम के तहत एक बंद कक्ष में प्लाज्मा गैस उत्पन्न होती है, जिनमें से कई अत्यधिक प्रतिक्रियाशील मुक्त कण हैं।
प्लाज्मा गैस का उपयोग गर्मी और नमी के प्रति संवेदनशील वस्तुओं, जैसे कि कुछ प्लास्टिक, विद्युत / इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों और संक्षारण-संवेदनशील धातु मिश्र धातुओं को निष्फल करने के लिए किया जा सकता है।
जी. स्टीयरोथर्मोफिलस के बीजाणु आईबी के रूप में उपयोग किए जाते हैं।
यह एक सुरक्षित प्रक्रिया है और चूंकि किसी वातन की आवश्यकता नहीं होती है, इसलिए निष्फल वस्तुएं तत्काल उपयोग के लिए उपलब्ध हैं या भंडारण के लिए तैयार हैं।
हालांकि, यह अंधा चैनल, पाउडर या तरल पदार्थ वाले उपकरणों के लिए उपयुक्त नहीं है।
अन्य नुकसान में उच्च लागत और विशेष पैकेजिंग सामग्री की आवश्यकता शामिल है क्योंकि कागज या लिनन का उपयोग नहीं किया जा सकता है।
इसके अलावा, कोई भी तरल या कार्बनिक अवशेष मौजूद है जो प्रक्रिया में हस्तक्षेप करता है।
धूमन
हाल ही में, स्वास्थ्य संबंधी चिंता के रोगजनकों, जैसे मेथिसिलिन-प्रतिरोधी एस. ऑरियस और सी. डिफिसाइल का मुकाबला करने के लिए पर्यावरण में फ्यूमिगेंट्स के उपयोग में रुचि बढ़ी है।
विभिन्न प्रकार के उपकरण उपलब्ध हैं, लागत में भिन्नता, उपयोग की जाने वाली प्रक्रिया और उनके द्वारा किए जाने वाले क्षेत्र परीक्षण के प्रकार।
एक सामान्य प्रक्रिया एक सीलबंद कमरे में हाइड्रोजन पेरोक्साइड समाधान को वाष्पित करना है, जैसे कि रोगी के कमरे में, सतहों को कीटाणुरहित करने के लिए।
उपचार के बाद वातन की आवश्यकता नहीं है क्योंकि हाइड्रोजन पेरोक्साइड आसानी से ऑक्सीजन और पानी में बदल जाता है।
बीजाणु स्ट्रिप्स (आईबी) को रणनीतिक रूप से पूरे कमरे में रखा जाता है और बाद में प्रक्रिया की प्रभावशीलता की निगरानी के लिए पुनः प्राप्त किया जाता है।
नुकसान में सेल्युलोसिक सामग्री के साथ असंगति और इलेक्ट्रॉनिक उपकरणों के संभावित क्षरण शामिल हैं।
साइट पर उत्पन्न क्लोरीन डाइऑक्साइड को कमरे को कीटाणुरहित करने के लिए गैस के रूप में छोड़ा जा सकता है।
गैस के क्षरण को तेज करने से सूरज की रोशनी को रोकने के लिए कमरों को न केवल सील किया जाना चाहिए बल्कि अंधेरा भी होना चाहिए।
हाइड्रोजन पेरोक्साइड की तरह, क्लोरीन डाइऑक्साइड स्वाभाविक रूप से हानिरहित उप-उत्पादों में गिरावट आती है।
ओजोन संलग्न स्थानों में सतहों को कीटाणुरहित कर सकता है; यह आमतौर पर स्वास्थ्य सुविधाओं में पाई जाने वाली विभिन्न सामग्रियों के लिए अत्यधिक अस्थिर और संभावित रूप से हानिकारक है।
हालाँकि, एक ओजोन-आधारित चिकित्सा उपकरण स्टरलाइज़र व्यावसायिक रूप से उपलब्ध है।
गैस ऑक्सीजन से उत्पन्न होती है और चक्र के अंत में इसे कटैलिसीस द्वारा ऑक्सीजन और पानी में बदल देती है।
इस उपकरण के लिए व्यापक सामग्री संगतता और पतले चैनल उपकरणों को संभालने की क्षमता का दावा किया जाता है।
पराबैंगनी विकिरण
पराबैंगनी (यूवी) प्रकाश प्रौद्योगिकी में हाल की प्रगति ने लघु-श्रेणी के यूवी विकिरण की सूक्ष्मजैविक क्षमता को विभिन्न उपयोगों के लिए उपयोगी बना दिया है।
यूवी लैंप का व्यापक रूप से पानी और अपशिष्ट जल कीटाणुशोधन के लिए उपयोग किया जाता है।
हवाई रोगजनकों के प्रसार को कम करने के लिए अस्पतालों और क्लीनिकों में वायु कीटाणुशोधन के लिए यूवी-आधारित उपकरणों का विपणन किया जाता है।
इन उपकरणों का विपणन अस्पताल की पर्यावरणीय सतहों के कीटाणुशोधन के लिए भी किया जाता है।
ओजोन के निम्न स्तर को उत्पन्न करने के अपवाद के साथ यूवी विकिरण उपचारित पानी और हवा में कोई रसायन नहीं जोड़ता है।
हालांकि, यह गंदगी के माध्यम से प्रवेश नहीं कर सकता है और वस्तुओं को विकिरण के सीधे संपर्क की आवश्यकता होती है।
ऐसे लैंप को सामान्य सफाई और आवधिक प्रतिस्थापन की आवश्यकता होती है; यूवी विकिरण कम होने के बाद भी वे दृश्य प्रकाश उत्सर्जित कर सकते हैं।
सन्दर्भ:
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